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제 품 명 : SI FOCUS RING

사용 설비 :Oxide Etcher

제품 재질 : Si

공 정 : Oxide

사용 용도 : Plasma Etch Focus 및 Wafer Sliding 방지를 위한 Hold

형        상

    * 국내와 해외의 모든 고객으로부터 뛰어난 특성을 평가받음

        - 공정 진행 중 particle 발생 최소화
        - 취급 및 운반시 오염 발생 최소화
        - 공정에서의 높은 생산성 유지
        - 다양한 소구경 size의 고객 요구에 대응

    * 대고객 납기 준수

Specifications

         - Material : Silicon Single Crystal
         - Orientation : <100>
         - Carrier Type : P-Type(Boron Doped)
         - Resistivity : 5-15 ohm-cm
         - Surface Treatment : Polished Surface

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