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제 품 명 : SILICON CATHODE

사용 설비 : Oxide Etcher

제품 재질 : SILICON

공 정 : DRY ETCHING

사용 용도 : LAM장비의 전극(CATHODE)으로 CHAMBER

내부로 유입된 GAS를 고루 분사 시켜주는 역할

형        상

    * 국내와 해외의 모든 고객으로부터 뛰어난 특성을 평가받음

        - 공정 진행 중 particle 발생 최소화
        - 취급 및 운반시 오염 발생 최소화
        - 공정에서의 높은 생산성 유지
        - 다양한 소구경 size의 고객 요구에 대응

    * 대고객 납기 준수

Specifications

         - Material : Silicon Single Crystal
         - Orientation : <100>
         - Carrier Type : P-Type(Boron Doped)
         - Purity of Silicon : 6N
                                 (10ppm Heavy metal contamination)
         - Resistivity : 10 -20 ohm-cm
         - Surface Treatment : Mirror Surface

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