公司概况 | 简历 | 机构


 

   ▶ 成立于    

 1994年 9月 1日

   ▶ 代表理事    
 李正基

   ▶ 生产线   
 半导体生产线 / 硅片生产线 / 阳极电镀生产线

   ▶ 主要客户  
 三星电子 / HYNIX 电子

   ▶ 地址  
 韩国 京畿道  华城市 东滩面 新理  197 号 445-812

   ▶ 注册资产    
 1,200,000  美元

   ▶ 职员  
 48 人


 

   ▶ 2003

    -. 十二月        完成MOS FET研制

    -.   十月          完成干蚀刻器的静电卡盘研制

    -.   八月          签署MOS FET OEM 产品合同

   ▶ 2002

    -.   九月          完成液晶显示干蚀刻器的上部电极研制

   ▶ 2001

    -. 十二月        建立阳极电镀制造厂

   ▶ 2000

    -.   四月          注册投资公司(注册号: 2000112441-2879)

   ▶ 1999

    -. 十二月         获得  ISO 9002 认证

   ▶ 1997

 

    -.   九月           与HYNIX电子有限公司签署正式供应合同

    -.   十月           与三星电子有限公司签署正式供应合同

   ▶ 1996

    -.   九月           完成蚀刻器的阴极研制

   ▶ 1994

    -.   九月           与SAMSUNG建立并开始干蚀刻器，电容分压器，

                                   真空电镀及离子植入机台等半 导体设备部件的商务

 

 


          
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